平面磁控溅射靶材 光学薄膜用硅靶标准号为YS/T 719-2009，发布日期：2009-12-04、实施日期：2010-06-01，所属行业分类。
本文网址：https://www.171zz.com/document/107292.html
YS/T 719-2009
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*本标准 YS/T 719-2009 仅供参考，使用标准请以正式出版的标准版本为准。
平面磁控溅射靶材 光学薄膜用硅靶标准号为YS/T 719-2009，发布日期：2009-12-04、实施日期：2010-06-01，所属行业分类。
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