本标准适用于真空冶炼法制得的镝、铽金属靶材，主要用于制备钕铁硼磁控溅射镀膜等。
镝、铽金属靶材标准号为XB/T 512-2020，发布日期：2020-12-09、实施日期：2021-04-01，所属行业分类制造业。
本文网址：https://www.171zz.com/document/177129.html
XB/T 512-2020
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*本标准 XB/T 512-2020 仅供参考，使用标准请以正式出版的标准版本为准。
本标准适用于真空冶炼法制得的镝、铽金属靶材，主要用于制备钕铁硼磁控溅射镀膜等。
镝、铽金属靶材标准号为XB/T 512-2020，发布日期：2020-12-09、实施日期：2021-04-01，所属行业分类制造业。
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