内容简要 SiC半导体材料以其独特的优异性能,特别适合制作高压、超高压功率器件。10kV级以上高压/超高压SiC功率器件多为垂直结构的双极型器件,如SiCPiN二极管、IGBT及GTO晶…
p沟道IGBT器件用4H碳化硅外延晶片标准号为T/CASAS 003-2018,发布日期:2018-11-20、实施日期:2018-11-20,所属团体名称为北京第三代半导体产业技术创新战略联盟。
本文网址:https://www.171zz.com/document/188386.html
内容简要 SiC半导体材料以其独特的优异性能,特别适合制作高压、超高压功率器件。10kV级以上高压/超高压SiC功率器件多为垂直结构的双极型器件,如SiCPiN二极管、IGBT及GTO晶…
p沟道IGBT器件用4H碳化硅外延晶片标准号为T/CASAS 003-2018,发布日期:2018-11-20、实施日期:2018-11-20,所属团体名称为北京第三代半导体产业技术创新战略联盟。
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