内容简要 本文件包含了制备碳化硅半导体材料用化学气相沉积法(CVD)外延设备（以下简称“外延设备”）的产品分类、工作条件、技术要求、试验方法、检测规则、标志、包装、运输和贮存要求内容，对…
制备碳化硅半导体材料用化学气相沉积法(CVD)外延设备标准号为T/ZJATA 0017-2023，发布日期：2023-06-20、实施日期：2023-07-20，所属团体名称为浙江省分析测试协会。
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T/ZJATA 0017-2023
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*本标准 T/ZJATA 0017-2023 仅供参考，使用标准请以正式出版的标准版本为准。