内容简要 本文件规定了X射线光电子能谱仪(XPS)深度剖析测量多层金属薄膜层结构的分析方法。本文件适用于70nm~240nm深度内纳米尺度多层金属薄膜层成分、化学态、膜厚…
多层金属薄膜 层结构测量分析方法 X射线光电子能谱标准号为T/CSTM 01199-2024,发布日期:2024-01-05、实施日期:2024-04-05,所属团体名称为中关村材料试验技术联盟。
本文网址:https://www.171zz.com/document/227287.html
内容简要 本文件规定了X射线光电子能谱仪(XPS)深度剖析测量多层金属薄膜层结构的分析方法。本文件适用于70nm~240nm深度内纳米尺度多层金属薄膜层成分、化学态、膜厚…
多层金属薄膜 层结构测量分析方法 X射线光电子能谱标准号为T/CSTM 01199-2024,发布日期:2024-01-05、实施日期:2024-04-05,所属团体名称为中关村材料试验技术联盟。
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