本标准规定了低位错密度锗单晶片的腐蚀坑密度(EPD)的测量方法。
本标准适用于测试位错密度小于1000个/cm2、直径为75mm~150mm的圆形锗单晶片的位错腐蚀坑密度。
低位错密度锗单晶片腐蚀坑密度(EPD)的测量方法标准号为GB/T 34481-2017,发布日期:2017-10-14、实施日期:2018-07-01,所属行业分类冶金。
本文网址:https://www.171zz.com/document/269413.html
本标准规定了低位错密度锗单晶片的腐蚀坑密度(EPD)的测量方法。
本标准适用于测试位错密度小于1000个/cm2、直径为75mm~150mm的圆形锗单晶片的位错腐蚀坑密度。
低位错密度锗单晶片腐蚀坑密度(EPD)的测量方法标准号为GB/T 34481-2017,发布日期:2017-10-14、实施日期:2018-07-01,所属行业分类冶金。
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