内容简要 本文件描述了电感耦合等离子体质谱法测定碳化硅晶片表面金属元素含量的方法。本文件适用于碳化硅单晶抛光片和碳化硅外延片表面痕量金属钠、铝、钾、钙、钪、钛、钒、铬、锰、铁、钴、镍、铜…
碳化硅晶片表面金属元素含量的测定电感耦合等离子体质谱法标准号为T/CASAS 032-2023，发布日期：2023-06-19、实施日期：2023-06-19，所属团体名称为北京第三代半导体产业技术创新战略联盟。
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T/CASAS 032-2023
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*本标准 T/CASAS 032-2023 仅供参考，使用标准请以正式出版的标准版本为准。