本标准规定了硅片表面金属沾污的全反射X 光荧光光谱测试方法,本方法使用单色X 光源全反射X 光荧光光谱的方法定量测定硅单晶抛光衬底表面层的元素面密度。 此标准适用于N 型和P型硅单晶抛光片、外延片等镜面抛光的硅片,尤其适用于清洗后硅片自然氧化层,或经化学方法生长的氧化层中沾污元素的面密度测定。
硅片表面金属沾污的全反射X光荧光光谱测试方法标准号为GB/T 24578-2009，发布日期：2009-10-30、实施日期：2010-06-01，所属行业分类电气工程。
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