本标准详细说明了用标定的均匀掺杂物质确定单晶硅中硼的原子浓度的二次离子质谱方法。它适用于均匀掺杂硼浓度范围从1×10的16次方atoms/cm3~1×10的20次方atoms/cm3。
表面化学分析 二次离子质谱 用均匀掺杂物质测定硅中硼的原子浓度标准号为GB/T 20176-2006,发布日期:2006-03-27、实施日期:2006-11-01,所属行业分类化工技术。
本文网址:https://www.171zz.com/document/254323.html
本标准详细说明了用标定的均匀掺杂物质确定单晶硅中硼的原子浓度的二次离子质谱方法。它适用于均匀掺杂硼浓度范围从1×10的16次方atoms/cm3~1×10的20次方atoms/cm3。
表面化学分析 二次离子质谱 用均匀掺杂物质测定硅中硼的原子浓度标准号为GB/T 20176-2006,发布日期:2006-03-27、实施日期:2006-11-01,所属行业分类化工技术。
本文网址:https://www.171zz.com/document/254323.html