本标准规定了基于光学干涉显微镜获取的微双端固支梁结构表面形貌进行残余应变测量的方法。
本标准适用于表面反射率不低于4%且使用光学干涉显微镜能够获取表面形貌的微双端固支梁结构。
微机电系统(MEMS)技术 基于光学干涉的MEMS微结构残余应变测量方法标准号为GB/T 34900-2017,发布日期:2017-11-01、实施日期:2018-05-01,所属行业分类电子学。
本文网址:https://www.171zz.com/document/268242.html
本标准规定了基于光学干涉显微镜获取的微双端固支梁结构表面形貌进行残余应变测量的方法。
本标准适用于表面反射率不低于4%且使用光学干涉显微镜能够获取表面形貌的微双端固支梁结构。
微机电系统(MEMS)技术 基于光学干涉的MEMS微结构残余应变测量方法标准号为GB/T 34900-2017,发布日期:2017-11-01、实施日期:2018-05-01,所属行业分类电子学。
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