本标准规定了太阳能级硅片和硅料中氧、碳、硼和磷元素体含量的二次离子质谱（SIMS）检测方法。 此标准适用于检测各元素体含量不随深度变化、且不考虑补偿的太阳能级单晶或多晶硅片或硅料中氧、碳、硼和磷元素的体含量。各元素体含量的检测上限均为0．2％（即＜1*10^20 atoms/cm^3），检测下限分别为氧含量5*10^16 atoms/cm^3、碳含量1*10^16 atoms/cm^3、硼含量1*10^14 atoms/cm^3和 磷含量2*10^14 atoms/cm^3 四种元素体含量的测定可使用配有一次离子源的SIMS仪器一次完成。
太阳能级硅片和硅料中氧、碳、硼和磷量的测定 二次离子质谱法标准号为GB/T 32281-2015，发布日期：2015-12-10、实施日期：2017-01-01，所属行业分类冶金。
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