u3000u3000此标准规定了一种准确测量硅晶片表面超薄氧化硅层厚度的方法，即X射线光电子能谱法（XPS）。此标准适用于热氧化法在硅晶片表面制备的超薄氧化硅层厚度的准确测量；通常，此标准适用的氧化硅层厚度不大于6 nm。
硅晶片表面超薄氧化硅层厚度的测量 X射线光电子能谱法标准号为GB/T 25188-2010，发布日期：2010-09-26、实施日期：2011-08-01，所属行业分类化工技术。
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GB/T 25188-2010
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*本标准 GB/T 25188-2010 仅供参考，使用标准请以正式出版的标准版本为准。