内容简要 碳化硅作为第三代高功率半导体新材料的代表，碳化硅器件已经获得了业界极大的期望和关注。面向市场的快速普及，对碳化硅抛光片的质量提出更高要求，高品质的呼声越发高涨。因此，快速检测单…
碳化硅单晶抛光片表面质量和微管密度测试方法 ——共焦点微分干涉光学法标准号为T/IAWBS 012-2019，发布日期：2019-12-27、实施日期：2019-12-31，所属团体名称为中关村天合宽禁带半导体技术创新联盟。
本文网址：https://www.171zz.com/document/188906.html